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本文给读者详细介绍一下等离子设备喷涂技术与火焰、气相表面喷涂技术工艺的区别：
一、等离子设备喷涂与火焰喷涂的区别
等离子设备喷涂喷涂技术是继火焰喷涂之后大力发展起来的大种精密喷涂方法。它具有:
(1)超高温特征，易于实现高熔点材质的喷涂。
(2)噴射微粒的速率高，涂层高密度，黏结应度高。
(3)喷涂材质鉴于应用稀有气体做为通入汽体，不容易被氧化。电浆料的高温可以瞬间熔化任何以前已知的物质，这使得等离子喷涂的材质更加丰富，具有喷涂高熔点陶瓷材料的特点。火焰喷涂只适合一-些熔点较低的喷涂材质。
二、等离子设备喷涂与气相沉积的区别
(1)根本方法不同(定义)
等离子体喷涂是将粉末木粉微粒送入高温等离子体，瞬时加热至熔化或半熔化状态，然后分别在基体表面以单个微粒为单位形成层状堆涂层。气相沉积是通过电阻扣热、离子轰击或电子束照射，将各种或几种材质气化(或化学分解)，直接在基体表面沉积薄膜的工艺方法。
(2)条件不同
一般情况下，等离子喷涂可在真空环境中直接实现大气环境气相沉积。
(3)涂层的结构和厚度不同
涂层组织呈层状堆积，涂层中存在大量的微粒间界面和气孔等缺陷，是高密度的数微米厚的薄膜材质。
(4)等离子设备喷涂性能不同，在一定程度上改善了涂层的气相沉积性能，极大地改善了材质的性能。
以上两种就是等离子设备喷涂与火焰、气相表面喷涂技术工艺的区别。
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