下面小编给大家介绍一下真空等离子清洗机的工作原理，由于等离子体中存在电子、离子、自由基等活性粒子，所以它本身就能与固体表面层产生反应。在真空等离子体清洗过程中，主要依靠活性微粒的“附着作用”来达到去除物体表层污渍的目的。从反应机制来看，等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子体状态；气相物质被吸附在固体表层；被吸附基团与固体表层分子反应产生产物分子；产物分子分析形成气相；反应残留物与表层分离。真空等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，可以处理金属、半导体、氧化物、聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烯、环氧甚至聚四氟乙烯等多种高分子材料，可以实现整体、局部和复杂结构的清洗。真空等离子清洗还具有以下特点:易于采用数控技术，自动化程度高；具有高精度控制装置，时间控制精度高；正确的等离子清洗不会在表面层产生损伤层，表面质量得到保证；因为是在真空中进行的，所以不会污染环境，保证清洗表面层不会被二次污染。

与湿法清洗相比，等真空离子清洗的优点表现在以下七个方面：

     1.等离子清洗后，被清洗的物体已经非常干燥，无需干燥即可送到下一道工序。

     2.不使用ODS有害溶剂，清洗后不产生有害污染物，是一种环保的绿色清洗方法。

     3.无线电波范围内高频产生的等离子体不同于激光等直射光，方向性不强。因此，它可以深入物体的微孔和凹陷的内部，完成清洁任务。因此，没有必要过多考虑被清洁物体形状的影响，这些难以清洁的部分的清洁效果与氟里昂相似甚至更好。

     4.整个清洁过程可以在几分钟内完成，因此具有高效率的特点。

等离子清洗所需真空度约为100Pa，在工厂实际生产中易于实现。这种装置的设备成本不高，加上清洗过程不需要使用价格昂贵的有机溶剂，因此它的运行成本要低于传统的清洗工艺。

     5、无需运输、运输、贮藏、排放等处理措施，生产现场容易保持清洁卫生。

     6、等离子清洗的最大技术特点是不分处理对象，可以处理不同的基材，金属、半导体、氧化物、高分子材料(例如聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高分子材料)等等离子材料可以很好地处理而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。

     7、在清除污垢的同时，还可以改变材料本身的表层性能，如提高表层的润性能，改善膜的附着力等，在很多应用领域中非常重要。