等离子体清洗常用气体就是氮气（N2）。这种气体主要是配合在线式等离子对材料表面活(化)和改性的应用。当然真空环境下也可以使用。氮气（N2）是提高材料表面侵润性的不二选择。氮气作为一种不活泼气体，在等离子体清洗的过程中，主要作为非反应性气体，氮等离子处理能提高材料的硬度和耐磨性。在某些情况下氮气也能作为一种反应性气体，形成氨的化合物。更多的情况下等离子体中使用氮气还是用作一种非反应性气体。等离子体一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效(果)。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的”活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。

       等离子体按照气体来分可分为以下两种：
       活泼气体和不活泼气体等离子体：根据产生等离子体时应用气体的化学性质不同， 可分为不活泼气体等离子体和活泼气体等离子体两类，不活泼气体如氩气（Ar）、氮气 （N2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）和空气等，活泼气体如氧气（O2）、氢气（H2） 等，不同类型的气体在清洗过程中的反应机理是不同的，活泼气体的等离子体具有更强的化学反应活性。不同特性的气体，它们用于清洗的污染物也须有不同选择。 当一种气体渗入一种或多种额外气体时，这些元素的混合气体组合，能产生我们所希望的蚀刻与清洗效(果)。借助等离子电浆中的离子或高活性原子，将表面污染物撞离或 形成挥发性气体，再经由真空系统带走，达到表面清洁的目的。等离子体形成过程，在高频电场中处于低气压状态的氧气、氮气、甲烷、水蒸气等 气体分子在辉光放电的情况下，可以分解出加速运动的原子和分子。这样产生的电子在 电场中加速时会获得高能量，并与周围的分子或原子发生碰撞，结果使分子和原子中又 激发出电子，而本身又处于激发状态或离子状态，这时物质存在的状态即为等离子体状 态。在等离子体中除了气体分子、离子和电子外，还存在受到能量激励状态的电中性的 原子或原子团（又称自由基），以及等离子体发射出的光线，其中波的长短、能量的高低在等离子体与物质表面相互作用时有着重要作用。