CRF plasma 等离子清洗机

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等离子处理在提高硬盘品质领域方面有成功应用

       经济的发展,人们的生活水平不断提高,对消费品的质量要求也越来越高。各种技术问题的不断提出,新材料的不断涌现,越来越多的科研机构已认识到等离子技术的重要性。硬盘塑料件科学的发展,技术的不断进步,电脑硬盘的各项性能也不断提高,其容量越来越大,碟片数量随之增多,转速也高达7200转/分,这对硬盘结构的要求也越来越高,硬盘内部部件之间连接效(果)直接影响硬盘的稳定性、工作可靠性、使用寿命,这些因素直接关系到数据的安(全)性。 

等离子

       服务器上的硬盘数据致关重要,而且随着硬盘的存储量越来越大,稳定性越来越难以达到要求,因此提高服务器硬盘的稳定性成为业界的不懈追求。而硬盘的稳定性依赖于硬盘支架与盘面的寿命和稳定性,其中硬盘支架上的HC和阴离子数目超标将直接导致硬盘在运行的过程中容易造成类似干电池的腐蚀,继而丢失数据甚致硬盘报废,而用传统的方法很难有效降(低)其数量,因此,HC和相关阴离子很难降(低)到标准要求成了硬盘领域发展的一个瓶颈,属于业界公认的难题。目前为了(降)低HC和相关阴离子数目多采用化学清洗方式,良品率低,效(果)不理想。诚峰智造等离子清洗机通过长达半年的工艺探索,与客户深入合作,通过修改清洗配方,更改反应腔体结构材质、提高腔内清洗均匀性等等,终于可靠将HC和相关阴离子数目降到标准要求以内,该项技术已经在国(际)硬盘支架市场占有量第壹的生产基地得以推广应用,大大提高了成品的良品率,缩减了生产成本,更关键的是提高了硬盘的稳定性和寿命,可靠性及抗碰撞性也有明(显)的改善。给客户带来了很大的经济效益和发展契机,甚致可以说,等离子处理在提高硬盘品质领域的成功应用成为硬盘发展史上一个新的里程碑。
       等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的成效。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、涂覆等目的。

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