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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
CRF电晕等离子处理机历史发展进程：
等离子体于1879年被发现，1928年被称为“plasma”，是一个微观系统，由大量相互作用但仍然处于非束缚状态的带电粒子组成，它们是除气态、液态和固态以外的物质第四态。利用电子温度和离子温度可以分别表示等离子体温度，CRF电晕等离子处理机的电离率较低，离子温度甚至可以与室温相相差无几，因此，日常生活中有很多场景可以运用低温等离子体技术。在CRF电晕等离子处理机发生的过程中也可以产生大量的活性粒子，这些粒子比一般化学反应产生的反应种类更多，活性更强，与材料表面接触时反应更简单。与传统式的物理和化学方式相较，等离子体表面处理低成本，不容易产生废料，对环境无污染，因此低温等离子体材料的表面改性处理非常合适，此外，电晕等离子处理机还可用于制备有机和无机纳米颗粒，用于杀菌等领域。
CRF电晕等离子处理机的产生，能够通过紫外辐射、电磁场激发、高温加热以及应用X射线等方式，其间，电磁场激发方式，也就是技术较为简单的操纵气体释放方式，在实验室研究和工业生产中使用得多。弧光放电是各种气体放电产生的等离子体中的一种；电晕放电产生的低温等离子体中难以产生足量的活性粒子；直流辉光放电需要低压环境，因此需要使用价格昂贵的真空系统，从而难以实现连续生产；低频交流放电等离子体的电极暴露在外，只对简单污染产生的等离子体进行污染，因此这些气体放电方式都不适合用于大型流水线工业。
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