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诚峰智造crf等离子设备可以用C4F汽体进行蚀刻？
诚峰智造crf等离子设备的性能主要包括清洗、活化、接枝（沉积）及蚀刻，完成这类性能除对放电方式和电极结构有要求外，工艺汽体的选择也是非常重要的，特别是蚀刻性能。那么诚峰智造crf等离子设备完成蚀刻性能通常会用什么汽体，又有哪些常规注意事项呢？今天我们就为大家分享一下诚峰智造crf等离子设备相关知识，供大家借鉴。
一、诚峰智造crf等离子设备概述
蚀刻通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，蚀刻效用是利用典型的汽体搭配生成有着明显蚀刻性的气相等离子体与物体表面的物质基材发生化学反应，生成其他比如CO,CO2,水等汽体，进而完成蚀刻的目的。完成蚀刻所使用的汽体大多为含氟汽体，应用最多的是C4F。四氟化碳C4F是1种无色，无味的汽体，无毒性、难燃，但在浓度较高的时有着麻痹效用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。
C4F电离后，会产生1种含有氢氟酸成分的蚀刻气相等离子体，能在各种有机表面上完成蚀刻和去除物质，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业广泛应用。
二、诚峰智造crf等离子设备辉光放电顏色
真空诚峰智造crf等离子设备电离四氟化碳汽体产生的等离子体顏色为乳白色，肉眼观察类似于稀薄的乳白色雾气，辨识度很高，非常容易与其它气体区分。
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