等离子喷枪气体的选择和处理的材料范围：
       相同配置的设备，氧气等离子喷枪处理比氮气等离子体处理效果更好。若需进行蚀刻，及其蚀刻后需要清除污垢，浮渣，表面处理，等离子聚合，等离子灰化或任何其他蚀刻应用，我们可以按照客户的要求，生产出安全可靠的等离子蚀刻机技术。我公司兼具传统的等离子型蚀刻系统和反应型离子型蚀刻系统，可以生产系列产品，也可以为客户定制专用系统。我们可以提供快速/高质量蚀刻，提供所需的均匀度。

       随着处理时间的延长，薄膜表面接触角减小，但在一定时间内，接触角几乎没有变化。等离子体处理可用于各种基底，复杂的几何构形也可进行等离子喷枪活化，清洗，镀膜等。等离子处理的热负荷和机械负荷较低，因此，低压等离子也能处理敏感材料。
以上结果说明，利用等离子喷枪表面处理PTFE粘性较好，需要不断地调整各处理参数以获得良好的处理工艺，CRF等离子喷枪操作简单，可设定多个实验参数，同时也可储存多种工艺参数，这对探寻工艺参数很有帮助。
        等离子喷枪技术的典型应用是：半导体/集成电路；氮化镓；氮化铝/氮化镓；砷化镓/砷化铝镓；砷化镓；磷化铟、镓/铟镓化物(InPInGaAs/InAlAs)；硅；硅锗；硅化硅陶瓷(Si3N4)；硅的溴化氢；硒化锌(ZnSe)；铝；铬；铂；钼；铌；铟；钨；铟锡氧化物；铟钛酸铅；塑料/高分子材料；聚四氟乙烯(PTFE)；聚甲醛(POM)；聚苯并咪唑(PBI)；聚醚醚酮(PEEK)；聚酰胺(PFA)；聚酰胺(PFA)；聚酰胺等。