CRF根据客户的需求，还可以定制真空等离子清洗机：
        真空等离子体清洗机是一类利用等离子体无法达到传统清洗方法的新型高科技技术。等离子体是一类物质状态，也称为第四种状态。在气体中添加足够的能量将其分离为等离子体状态。在等离子体中“活性”成分包括:离子、电子、活基、刺激性(亚稳态)和光子。真空等离子体清洗机利用这种活性成分的特性来处理样品表面，从而达到清洗的目的。

       真空等离子体清洗机是一类根据工业用户和研发用户的需要而广泛使用的等离子体表面处理设备。适用于等离子体清洗、激活、蚀刻等应用。该设备可在恶劣环境下稳定运行，达到高均匀性的使用效果。低温等离子体设备是一类小型廉价的桌面等离子体清洗机，配有铰链门、观察窗和精密控制测量阀，可用于纳米表面清洗和小样品激活。
       真空等离子体清洗机采用能量转换技术，在一定的真空负压下，气体通过电能转化为高活性气体等离子体，气体等离子体轻轻清洁固体样品表面，导致分子结构变化，实现样品表面有机污染物超级清洁，在很短的时间内，有机污染物通过真空泵干燥，其清洁能力可达到分子水平。在某些情况下，样品的表面特性也会发生变化。等离子体清洗机是一类环保的机械设备，主要用于清洗电子部件、物体表面腐蚀、等离子体涂层、等离子体涂层、等离子体灰化、表面改性等，功能强大。
        真空等离子体清洗机以气体为清洗介质，可有效避免液体清洗介质对被清洗物体造成的二次污染。设备外部真空泵。工作时，清洁腔内的等离子体，轻轻清洁被清洁物体的表面。清洗时间短可使污染物被真空泵带走，清洗程度可达到分子水平。