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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
工业中产生的等离子体刺激频率为40kHz，13.56MHz和2.45GHz等离子清洗设备：
plasma的密度与设备的起弧频率有关系：
nc=1.2425×108v2
其中ncplasma密度（cm-3），v为激发频率（Hz）。
分为三种常用的等离子体激发频率：40个kHz中频plasma，13.56MHz为射频等离子体，2.45GHz微波等离子体清洗设备。
不同类型的等离子体形成不同类型的自偏压。超声等离子体的自偏压为10000V低温宽度等离子清洗机射频等离子体自偏压约为250V左右两侧，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，三个等离子体的机制不同。超声波等离子体的反应是物理反应，射频等离子体的反应既是物理反应又是化学反应，微波等离子体的反应是化学反应。超声波等离子清洗设备对清洗表面影响较大，因此射频等离子清洗和微波等离子清洗多用于实际半导体生产。
等离子清洗设备电子点火器线圈骨架密封环氧树脂胶预备处理，进一步提高附着力和附着力。通过等离子体接枝处理，引入醛基、氨基、环氧基等活性功能，将酶牢固定在载体上，提高酶的固定性；等离子体处理后，细胞培养皿大大提高了壁培养细胞的能力。生物芯片技术的电极碳膜通过等离子体活化，提高了酶和抗体固定的稳定性，实现了电极的再利用。血浆分离器的内壁和滤芯都需要等离子体的抗凝处理，以提高过滤能力和使用寿命。
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