crf等离子体发生器技术-PTFE孔薄膜界面表面能测试：
       PTFE微孔膜有着相对稳定的化学性能、抗高温、抗腐蚀、优质的防水性、疏油性能、高温、高湿度、高腐蚀和特殊气体液体过滤性能，可普遍使用于冶炼、化工类、煤炭、水泥等行业，1种抗高温复合过滤膜材料。但它极低的表面活性、突出的不粘滞性使它很难与基材复合，从而限制了它的应用。等离子体发生器技术是1种常见的干腐蚀形式，其原理是当离子体原子经过静电场加速时，气体暴露在电子区域形成等离子体，产生离子体，释放由高能量电子组成的气体，形成等离子体或离子，释放力足以接近材料或蚀刻表面，与表面驱动力结合。在一定程度上，等离子体发生器清洗实际上是等离子蚀刻过程中的1种轻微现象。干燥蚀刻处理设备包括反应室，电源，真空等部分。部件被送到反应室，气体被导入等离子体，并进行交换。等离子体的蚀刻过程本质上是一个活跃的等离子过程。近来，反应室里出现了1种搁置形式，使用者可以灵活地移动它来配置合适的等离子体蚀刻方法：反应性等离子体(RIE)、顺流等离子体(downstream)和直接等离子体(directionplasma)。

       crf等离子体发生器的表面处理功率不是越大越好。在较低的功率下，随着功率的增加，处理后的薄膜剪切强度逐渐降低。ICPE是化学和物理过程的综合结果。其基本原理是：在低压下，ICP射频电源输出到环耦合线圈，耦合光放电后，耦合光放电后混合腐蚀气体，产生高密度等离子体，在基底表面轰击下，基底图形区域半导体材料化学键中断，与腐蚀气体产生挥发性物质，气体从基底分离，抽离真空管。