真空等离子清洗机作为一种精密干法清洗设备,适用于混合集成电路、单片集成电路管壳和陶瓷基板的清洗;应用于半导体、厚膜电路、元器件封装前、硅片刻蚀后、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清 洗,可去除金属表面的油脂、油污等有(机)物及氧化层。 还可应用于塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活(化)以及生命科学实验等。使用过真空等离子清洗机的人都知道，产品的清洗是在真空腔体中进行的。有人会问：“为什么要在真空状态中清洗呢”？因为在真空状态中清洗可以达到一个比较好的效(果)。所以真空泵是组成真空等离子清洗机的重要部件之一，下面讲一下真空泵的几种控制方式：
       1.小型实验型真空等离子清洗机真空泵控制方式
       大部分真空等离子清洗机腔体抽空所使用的真空泵有干泵和油泵两种，有的使用单个泵，也有使用泵组的。小型的实验型真空等离子清洗机使用单个泵，它的操作面板主要由按钮，状态指示灯，带指示灯的蜂鸣器，功率调节器，数显式真空计，定时器，旋钮开关，浮子流量计等部件组成，其真空泵的启停控制是由带自锁的点动按钮去直接控制交流接触器，交流接触器触点的通断控制真空泵三相电的通断，这种控制比较直观简单，在手动操作的这种小型的等离子清洗机上面这种控制方式完(全)可以满足控制要求，但如果要用这种方式实现自动控制，不但难度比较大，控制的精度和安(全)性都很难达到要求。
       2.在线式和手拉门式真空等离子清洗机真空泵控制方式
       真空等离子清洗机属在线式的和手拉门式的很为常见，所使用的真空泵有一个泵的也有两个泵的，都是通过触摸屏进行操作控制，控制模式分手动控制和自动控制。

       2-1手动控制方式
       手动控制的原理和上述实验性的真空等离子清洗机的基本类似，按下相应的按钮即真空泵开启，不同之处在于一个是通过硬件按钮操控，一个是通过触摸屏里面的虚拟按钮操控。硬件按钮驱动的是继电器线圈，而触摸屏按钮驱动的是控制器软元件，控制器通过逻辑计算把结果输出到控制器的输出端，驱动中间继电器动作，中间继电器的触点通断驱动真空泵交流接触器的线圈的触点通断，从而控制真空泵电机三相电的通断。
       2-2自动控制方式
       自动控制是按下自动按钮即所有动作按顺序自动执行，真空泵的启停是通过相应的逻辑条件穿插在整个工艺控制流程当中。不管是手动控制还是自动控制，要想把真空度维持在某一数值，单独靠流量计来调节是无法满足要求的。腔体抽空是靠真空泵来抽取的，如果能够很灵活地控制真空泵电机的转速，腔体的真空度就能够很容易地控制在设定范围之内。当腔体真空度小于或大于设定值的时候，真空泵电机的转速根据计算会自动调节，使电机转速维持在设定真空度转速的范围之内；当腔体真空度受到其他因素的影响，实际真空度和设定真空度之间只要有偏差，程序就会自动计算，使真空泵的转速自动调节到能够维持设定真空值的转速范围之内，这种控制叫做PID控制。
       P是比列作用，I是积分作用，D是微分作用。PID既有比例作用的及时迅速，又有积分作用的偏差消(除)，还有微分作用的超前微调功能。当偏差阶跃出现时，微分立即大幅度动作，抑制偏差的这种跃变；比例也同时起消(除)偏差的作用，使偏差幅度减小，由于比例作用是持久和起主要作用的控制规律，因此可使腔体真空度变得比较稳定；而积分作用慢慢把偏差克服掉。只要三个作用的控制参数调试得当，就可以充(分)发挥三种控制规律的优点，得到一种很佳的控制效(果)。
       其主要过程包括：首先将需要清洗的工件送入真空室固定，启动真空泵等装置开始抽真空排气到10Pa左右的真空度；接着向真空室引入等离子清洗用的气体（根据清洗材质的不同，选用的气体也不同，如氧气、氢气、氩气、氮气等），并将压力保持在100Pa左右；在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压，使气体被击穿，并通过辉光放电使其发生离子化，产生等离子体；在真空室内产生的等离子体完(全)覆盖被清洗工件后，开始清洗作业，清洗过程会持续几十秒到几分钟。整个过程就是依靠等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，大多数的物理清洗过程需要有高能量和低压力。在轰击待清洗物表面以前,使原子和离子达到大的速度。 因为要加速等离子体,所以需要高能量,这样等离子体中的原子和离子的速度才能更高。需要低压力是为了在原子之间碰撞前增加它们之间的平均距离,这个距离指平均自由程,这个路径越长,则轰击待清洗物表面的离子的概率越高。从而达到表面处理、清洗和刻蚀的效(果)（清洗过程某种程度就是轻微的蚀刻工艺）；清洗完毕后，排出汽化的污垢及清洗气体，同时向真空室内送入空气恢复致正常大气压。