CRF等离子体清洁机sop操作流程介绍：
       CRF等离子体清洁机能通过调整原材料的表面来增强表面能量，粘接，印刷和润湿。并且还可以提供等离子体的防水涂层产品。实际上，绝大多数的材料都能够等离子处理。

       等离子表面处理设备处置的污染物基本上都是无形的，应属纳米级。这种污染物影响到物体与其他物质如胶水或墨水相互作用的能力。用等离子体处理物体表面，可去除有机化合物。等离子表面处理设备能够提高粘结剂或焊料的粘结力和印刷稳定性。本工艺适用于光亮塑料和橡胶，杂质去除后可直接印刷粘合。等离子体清洁机可广泛应用于原材料的表面活化改性，以提高其粘结性能等。下面介绍等离子体清洁机的清洗原理：
1、清洗后的工件送入真空等离子清洗机的空腔并固定，启动操作装置，开始排气，使真空室的真空度达到标准的10帕，一般排放时间约为几十秒。对等离子体进行未经化学处理的任何一种表面改性方法，称为干蚀。在等离子蚀刻过程中，所有等离子清洗的产品都是干腐蚀的。等离子体腐蚀类似于等离子体清洗。而等离子蚀刻则是用来去除已处理表面层杂质。
2、将经等离子体清洁机的气体引入真空室，并保持内腔压力稳定。根据清洁原材料的不同，可以分别使用氧气，氩气，氢气，氮气，四氟化碳等气体。氧-等离子体处理是目前常用的干法腐蚀方法之一。氧(有时与氩混合)用于处理铝、不锈钢、玻璃、塑料和陶瓷表面。
3、等离子体清洁机真空室内电极与接地设备之间施加高频电压，使气体被击穿，并发生辉光放电，产生等离子体，将处理过的工件完全覆盖真空室内产生的等离子体，开始清洗作业，一般清洗处理持续时间从几十秒到几分钟不等。蚀刻机可以让等离子体腐蚀印制电路板，使其具有更好的粘合性能，如粘合性和装饰性。
4、CRF等离子体清洁机处理完成后，切断电源，通过真空泵排出气体和汽化污物。