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电晕放电和介质阻挡放电诚峰plasma设备的区别哪些：一、诚峰plasma电晕放电 气介质在不均衡电场中的部分自持放电。它是最常见的的汽体放电方式。在回转半径小的前沿电极的附近，考虑到部...
发布时间:2022-03-10
等离子体表面处理仪crf搭配催化剂对反应物有哪些作用？一、催化剂对反应物有活化作用 催化剂通过吸附作用活化反应物，促使反应物转化。催化作用下CH4活化及转化机理研究显示吸附于催化剂...
发布时间:2022-03-08
crf诚峰智造plasma清洗机的工作方式: 现如今，普遍采用的清洗方法主要包括湿清洗和千法清洗。湿清洗有很大的限制性，从对环境的危害来看。充分考虑到材料的损耗和未来发展趋势，干式清洗明显优...
发布时间:2022-03-04
CRF电浆清洗机应用下对负载型镧系氧化物催化剂CO2氧化CH4制C2： 负载型镧系氧化物催化剂具有良好的OCM反应活性。在催化活化CO2氧化CH4制C2烃反应中，La203/ZnO给出了高达97%的C2烃选择性...
发布时间:2022-03-02
诚峰plasma清洗塑料件表面清洗： 低温诚峰plasma清洗设备的表层改性是低温等离子与塑料材质橡胶产品表层相互作用的环节，如材料表层处理（塑料材质表层处理、金属制品、铝表面处理、印刷...
发布时间:2022-02-28在
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