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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
等离子体发生器工艺在半导体晶圆上应用越来越普遍： 在半导体生产过程中，几乎每个过程都需要清洗，圆形清洗质量对设备性能有严重影响。正是因为圆形清洗是半导体制造过程中一个重要而频...
发布时间:2022-12-17
双基片结构下的射频电浆清洗机： 使用园柱谐振腔式MPCVD装置能通过增强沉积压力来提升等离子体密度，在基片台上实现金刚石膜的快速生长。改变石英管位置、腔体结构、调谐板灵活程度等方式...
发布时间:2022-12-14
plasma设备常说的基本要素跟哪些方面息息相关： 在原材料的表面处理过程中，plasma设备主要有以下基本要素：明显增强侵润性，从而形成活性表面；清洁灰尘和油污，细致清洁和除静电；提供...
发布时间:2022-12-12
crf电浆清洗机活化后对表面是否可达到均匀性： crf电浆清洗机一次清洗范围大，可设计成不规则形状，非常适合用于材料表面改性。经过电浆清洗机表面处理，原材料的表面存在很多物理、化学...
发布时间:2022-12-08
行业中清洗工艺常讲的粘结性、相容性和去除脏污往往跟真空等离子清洗机有关：一、crf真空等离子清洗机增加材料之间的粘结性 许多聚合物材料，如聚合物膜和纤维，很难被溶剂湿润，附着力低...
发布时间:2022-12-07在
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