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双基片结构下的射频电浆清洗机：
使用园柱谐振腔式MPCVD装置能通过增强沉积压力来提升等离子体密度，在基片台上实现金刚石膜的快速生长。改变石英管位置、腔体结构、调谐板灵活程度等方式达到增强功率密度的效果。把石英管设在沉积台下方，提升谐振腔中调谐板与调谐活塞移动范围的方法，来实现减小电浆清洗机污染，提升沉积速率的效果。
电浆清洗机内基团的相对谱线强度能够反映出气体的离解程度，同时也是金刚石沉积速率和质量的重要因素，上基片台作为尖部在微波电磁场中电场强度大，附近的离子发生激烈运动，并不断与其他粒子发生碰撞，使等离子体密度增强。高H谱线强度说明双基片结构下等离子体能产生浓度更高的H自由基，H自由基能刻蚀sp'C和石墨等非金刚石相，增强沉积金刚石的质量。
相比于双基片结构，单基片台下各个位置基团强度都十分接近，说明双基片台结构具有集聚等离子体的作用，能使各基团向基片台范围内靠拢，在基片台范围内均匀性好，而基片台范围外则均匀性差，而单基片台对等离子体的集聚作用则较弱，等离子体更加发散。
此外在双基片结构下，随着甲烷浓度提升，C2基团强度上升更加显著，能有效提高金刚石沉积速率；双基片结构下的射频电浆清洗机电子温度更低，内部粒子间的碰撞更为剧烈，且电子温度随气压上升而降低。
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