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CRF等离子刻蚀机里通入的四氟化碳在高频电离下产生的反应

CRF等离子刻蚀机里通入的四氟化碳在高频电离下产生的反应:
        CRF等离子刻蚀机的基本要素关键分成清理、活化、改性(沉积)及蚀刻,完成这一些基本要素除对自放电方式方法和电极材料构造有规定外,加工工艺混合气体的选用也是十分关键的,尤其是蚀刻基本要素。因此等离子设备完成蚀刻基本要素一般会用哪种混合气体,又有什么基本的注意事项呢?

        刻蚀一般又会被称作蚀刻、咬蚀、凹蚀等,刻蚀的作用是运用常见的混合气体搭配建立具备明显蚀刻性的气相等离子与物件表层的有机化合物基材发生化学变化,转化成其他的例如一氧化碳,二氧化碳,H2O等混合气体,进而做到蚀刻的目地。完成蚀刻所运用的混合气体大部分为氟化物混合气体,使用较多的是四氟化碳。四氟化碳是1种无色,无味的混合气体,无毒性、不燃烧,但在浓度很高时具备麻痹的作用,因此在工业生产使用时存储的器皿为专用型高压气瓶,所运用的调压阀也为专用型调压阀。
        四氟化碳在被CRF等离子刻蚀机电离后会形成含氢氟酸成份的蚀刻性气相等离子,能够对各种各样有机化学表层完成蚀刻及有机化合物清除,在晶圆制造、pcb线路板生产、光伏太阳能电池生产等行业领域中被广泛运用。
        真空CRF等离子刻蚀机电离四氟化碳混合气体形成的等离子色彩为乳白色,眼睛观察类似较稀的乳白色雾水,辨识度很高,比较容易与其他的混合气体划分。


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