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CRF低温等离子发生器喷涂工艺可控制备单片镀层的难点研究：
CRF低温等离子发生器喷涂技术是1种常见的镀层制备工艺。在制备的镀层中，镀层的微观结构主要由其表面形貌特征和堆叠行为决定，从而影响镀层的微观结构。
与熔滴本身物理化学状态相关的主要因素、沉积镀层基础相关的主要因素和环境因素对单层形成过程的影响，重点分析粉末尺寸、基础预热过程及其相关性，提出未来更接近真实生产条件的方向。
随着工业技术的不断发展，对零部件综合性能的标准越来越高，表面工程的必要性日趋凸显。在零部件表面制备厚度数微米到数毫米的功能薄层，CRF低温等离子发生器可以改变零部件的表面性状，稳步提升其特性，从而合理有效增加其使用期限，这合乎环保、绿色发展和绿色发展的标准。
热喷涂是表面工程的重要构成部分，喷涂工艺不断演化，对喷涂过程的在线监测和控制技术也迅速发展，喷涂材料种类也不断扩展，形成了包括设备、原料、工艺及应用的详细经济体制。CRF低温等离子体喷涂(APS)是热喷涂技术中的1种，它以高温高速度的等离子体射流作为热源，对制备陶瓷涂层有独特的优越性。
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