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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
半导体等离子蚀刻机在真空环境下的原理优势: 在光刻技术中，半导体表面会出现残胶，这就需要一个好的方法进行处理，将残胶清除的同时不会对产品造成损伤，等离子蚀刻机就是这样的一个设备...
发布时间:2023-07-17
一、CRF超低温plasma清洁技术简述超低温plasma清理是一种应用广泛的表面处理工艺，其根据使用带有活力物种等离子来消除残渣、有机化合物和二氧化硅等表层污染物质。与传统持续高温化学物理清洁方法对比，超低温plasm...
发布时间:2023-07-12
线路板等离子发生器的应用相当普遍： 在制作印刷线路板的过程中，特别是高密度互连板，需进行孔型金属化处理，利用金属化的孔来实现层间的电气导通。激光孔或机械孔钻孔经常出现残余物附...
发布时间:2023-07-07
低温等离子体清理能够实现的功能的1种,改善纤维或织物的吸湿、润湿性： 使用低温等离子体中处于激发态的各类高能粒子的物理刻蚀和化学反应,或者利用等离子体的接枝、聚合沉积等方式,可在纺织品...
发布时间:2023-06-29
CRF电浆清洗机处理法对聚碳酸酯材料表面改性原理 CRF电浆清洗机对PC聚碳酸酯的表面改性是指利用等离子体与材料表面的相互作用，在表面上形成新的官能团和改变聚合物链结构，改善亲水性、...
发布时间:2023-06-24在
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