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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
芯片与载体若有氧化物用crf等离子表面处理机有用? 离子和自由分子的数量由清洗过程中的压力控制,因此过程压力是一个非常重要的参数。工作腔内的压力是受真空泵工作状态和工作气体注入...
发布时间:2022-10-24薄膜等离子火焰机处理机粘合力增加的探索应用: 塑料薄膜一般由吹塑薄膜或拉伸工艺制作而成。这一些溥膜经过电晕放电来进行预设处理,便于为下一步的包装印刷和包装印刷后处理方式做好充...
发布时间:2022-10-20手动式和在线等离子体表面处理器在结构和功能上有什么区别: 等离子体表面处理器的工作方式属于干式清洗方式,在半导体设备生产、微机电系统、光电元件等包装领域具有明显的优势,有利于...
发布时间:2022-10-15等离子体设备在高频高压下产生的中性粒子通入不同的气体: 等离子体设备环境有利于产生许多化学反应。气源种类、流速、压强、输入功率等工艺参数决定某一反应能否产生首要输入工艺参数。...
发布时间:2022-10-12CRF真空等离子设备提升半导体产品的封装可靠性如何? 随着技术的不断变化,半导体IC对工艺和包装的精度要求也有所提高。半导体芯片制造过程中残留的光刻胶会影响芯片生产过程中的相关工...
发布时间:2022-10-10在
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