电子元器件为什么可以用到 crf等离子清洗机:
        伴随着不断增多的电子产品诞生在我们的日常生活中，电子元器件设备清洗也就成为了火爆的内容!在电子元器件设备清洗一般来说可划分为2种:湿法清理和干式清理。
        湿法清理早已在电子元器件工业制造中广泛运用，可是湿法清理的过程中所诞生的环境污染和有毒有害化学原料对自然环境的危害性变成让人困惑的问题。相对来说，干式清理在这一方面有非常大的特点，这其中尤其以crf等离子清洗机技术工艺为例子已逐渐在半导体材料、电子元器件拼装、精密机械制造.医疗设备等行业领域广泛运用。因而，我们都需要掌握下crf等离子清洗机工艺与普通湿法清理的不同点。

       湿法清理主要是借助物理和有机化学溶液的功效，如在化学性剂需吸咐、渗透、融解、散离功效下配合超声波、喷洒、转动.沸腾、蒸汽摇晃等物理功效下去污。
       与湿法清理相比较，等离子清洗机的基本原理是借助处在“等离子态”的化学物质的“活化功效”做到解决物品表层污迹的目地。从当前各种清理方式 中看，很有可能等离子技术清理也是所有的清理方式 中相对完全彻底的脱离式清理。
用crf等离子清洗机和湿法清理对比∶
1、湿法化学水处理时长和有机化学溶液对加工工艺敏感，crf等离子清洗机加工工艺的过程更易于调节。
2、解决油污及氧化物质等加工工艺时，湿法化学水处理需要更进一步解决及加工处理或需要频繁清理，而等离子清洗只需1次，一般来说无残余物。
3、湿法化学水处理后大批量的废弃物还需要需要更进一步加工处理，如此一来也消耗大量的时长和人力资源，可是等离子清洗响应副产品为大气环境，在借助真空系统及中和器可可以直接排出到大气环境中
4、有关于毒副作用:湿法化学水处理溶液和酸有非常高的毒副作用，而等离子清洗响应所需大气环境绝大多数无毒无害，相关工作人员运用等离子清洗好长时间也不会对身·体诞生危害性。
等离子清洗技术工艺较常规性化学水处理有着多个特点，等离子体基于运用电量催化反应化学变化而不是热量，因而给予了1个超低温自然环境。等离子体解决了由湿法化学水处理造成的风险，而且与其它清理相比较清理后无废水。现如今crf等离子清洗机应用的行业领域更加普遍，发展前途极为宽阔，与此同时为各个领域解决了很多的问题。