CRF plasma 等离子清洗机

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UV紫外线光解和真空等离子清洗机技术的区别分析

       UV紫外外光分析和真空等离子清洗机技术是有机废气处理中常用的2种方法。两者均可将废气中的有机成分分解成无害的水和CO2,从而防止二次污染。但两者,各有利弊。
       紫外光解是一种双光谱特性,使用特殊的低压紫外灯同时发射185纳米和254纳米紫外线。发射的185nm紫外光,能够在空气中触发02(氧),并转化成03(臭氧)。臭氧层具有很强的氧化能力,与废气中的烃(如苯、烃、醇、脂等)充分混合接触。),在灯管发出254纳米紫外线的催化条件下,可直接氧化分解H2O和CO2。可见,由紫外灯管发出的185nm紫外光可以当做氧化剂;而灯管发射的254nm紫外线,则可以当做必要的条件使光解反应得以顺利进行。然而,紫外线灯管产生臭氧层的能力很低。例如,最常用的臭氧紫外线灯管是150WU形。当氧气充足时,每小量只有6毫克/瓦。在光解反应中,臭氧是一种关键的反应物质,其产生量的多少直接影响到处理效果。等离子体技术是利用高压电场,使空气中的02电离产生03,其臭氧产生效率比紫外灯要高很多。本实用新型采用激发式真空等离子清洗机作为清洗设备,能合理地防止被清洗物对二次污染。本机装置配有真空泵,在保持真空设备内腔真空的条件下,能够快速、彻底地清除真空等离子体中反应的污染物,能够在短时间内迅速、彻底地去除污染物。

真空等离子清洗机

       所以,我们把这2种处理方法结合起来。在光解设备的前部安装了真空等离子清洗机,真空等离子清洗机产生的03与有机废气混合,通过紫外线灯管流动。紫外光管可进一步激发03的产生,同时在254nm紫外光的催化作用下,03与有机物的反应效率大大提高,从而获得了理想的处理效果。因为电浆灯比紫外灯管具有更高的臭氧产生效能,使设备的耗能随之降低,节能效果显著。目前常用的等离子技术有非真空和真空2种类型。直立式和蜂窝式两种真空等离子清洗机,它们需要的额定电压非常高,约1.5~18000伏,因此对系统的绝缘要求非常高。使用过程中产生的电弧较大,且直接与空气接触,用于处理易燃气体I艺时,存在很大的火灾隐患。
目前的真空等离子清洗机均采取软玻璃制造,具有以下优点:
1、所需额定电压大幅度降低,约2-3千伏,从而大大降低了系统绝缘要求,同时减少了由高压电火花引发易燃气体的可能性;
2、所产生的电弧大部分是封闭在真空管道内,更使火灾发生的可能性大大降低。但是软料玻璃的缺点是,在工作环境温度变化较大的情况下,很容易出现裂纹,而真空状态被破坏,不能继续工作。它的稳定性很差,使用寿命短,限制了其在生产中的实际应用。
       CRF真空等离子清洗机方案设计合理合理,需要不同材料的配合。防静电托架可避免静电对产品造成的影响。等真空等离子清洗机可以在等离子轰击或发生化学反应的基础上对产品表面进行离子注入、活化和清洁。在面层上进行粘接,可以显著提高粘接强度。


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