CRF等离子清洗机制备纳米粉末有别的独有的优势：
       氧化铋是一种重要的功能粉体材料，广泛应用于无机合成、电子陶瓷、化学试剂等领域，主要用于制造瓷介电容器，也可用于制造压电陶瓷、压敏电阻等电子陶瓷元件。鉴于纳米氧化铋粒度更细，除了拥有一般粒度的氧化铋粉末的性质和用途外，还可以用于对粒度有特殊要求的场合，如电子类材料、超导材料、特殊功能陶瓷材料、阴极射线管内壁涂料等。

       因此，对纳米Bi:O3制备方法及应用的探索已引起了相关研究人员的广泛兴趣。制备纳米Bi20,方式大致有固相反应法、沉淀法、喷雾燃烧法、溶胶-凝胶法等，这些方法已取得良好的效果，但仍存在一些局限性：喷雾燃烧法制备的纳米氧化铋粒径不均匀且对设备要求较高;化学法生产的纳米氧化铋易团聚，鉴于生产过程中使用了碱液，不可避免的带入了碱金属或碱土金属离子，影响氧化铋的纯度。
CRF等离子清洗机等离子体的活性大，它是处于电离状态的气态物质，是一种气相的化学反应。       plasma是纯净气体电离产生的，有利于制备高纯度的粉体。鉴于等离子表面处理机等离子体的温度梯度大，所以容易得到高饱和度，也很容易实现快速淬冷，得到高纯的纳米粉末。与液相法对比，正常情况下气相法制备的粉体产品纯度高、表面清洁、结晶组织好、环境污染少，因而在制备铋纳米粉体时，使用气相法更为有利。
        用CRF等离子清洗机制备纳米粉末有许多用别的方式所不具备的优点。等离子体为热源，以普通微米级纳米氧化铋粉体为原料，通过选择合适的功率、加料量，成功制备出粉末中位粒径17.5nm、比表面积为47.73m/g的正方晶系纳米BizO3粉末;制备的纳米氧化铋纯度高、结晶组织好。