plasma等离子清洗设备在数字工业中的应用，等离体是由带正负电荷的离子和电子组成，可能有一些中性原子和分子结构。通过装置，在密封的容器内设置两个电极以形成电场，并通过真空泵实现真空。当气体越来越稀薄时，分子结构间的距离和分子结构或离子的自由运动就越来越远。他们与电浆在电场作用下碰撞形成电浆。其活性极高，能量转换足已损毁大多数几乎所有离子键，在曝露表层发生化学反应。

       当处于真空状态时，等离子体对工件表层进行化学或物理处理，可做到分子结构水准(通常薄厚为3-30纳米)去掉。离子清洗能提高工件的表层活性，其去掉污染物质具体有有机化合物、光刻技术、氧化物、颗粒等。plasma等离子体清洗设备是一种高精度清洗过程。由于市场上许多数码产品等塑料外壳表层经常出现掉漆或键盘文字褪色的问题。若用其他化学方法处理，价格高，污染大。而且采用数码专用等离子清洗设备处理表层颜色略浅，反光度降低，用手触摸可感觉表层略粗糙；使喷漆的附着性大大提高。已经在苹果、oppo等手机外壳和键盘上得到了广泛的应用。等离子体清洗已逐渐广泛应用于半导体制造、微电子技术封装形式等行业。
       例如，plasma等离子清洗设备清洗技术在微电子技术封装形式中的应用具体用于去掉表层污染物质和表层蚀刻，可以显著提高封装形式质量和可靠性。等离子清洗设备的出现，减少了人工参与造成的二次污染和人工成本，提高了产品的产量和可控性，不仅提高了产品质量，而且提高了效率，节约了人工成本，为微电子技术行业的产品质量提供了有力保证，促进了其行业应用的发展，为企业创造了发展效益，同时也展示了科技的魅力！