CRF等离子活化机清洗工艺对PTFE孔薄膜界面有很好的改性效果：
       PTFE微孔膜具有稳定的化学特性，耐高温、耐腐蚀，优良的抗水、疏油性能，对高温、高湿、高腐蚀以及特殊气体中的机液等均有良好的过滤性能，可主要应用于冶金、化工、煤炭、水泥等行业的除尘过滤，是一类耐高温复合滤料的薄膜材料。但它极低的表面活性、突出的不粘滞性使它很难与基材复合，从而限制了它的应用。CRF等离子活化机技术是干法刻蚀中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区的气体形成等离子体，产生离子体并释放出由高能电子组成的气体，形成等离子体或离子，当离子体原子通过电场加速时，释放出的力足以紧贴材料或蚀刻表面，使之与表面驱动力结合。在一定程度上，等离子清洗实际上是等离子蚀刻过程中的一种轻微现象。干燥蚀刻处理设备包含反应室，电源，真空等部分。工件被送到反应室，气体被引入等离子体，并进行交换。等离子体的蚀刻过程本质上是一个活跃的等离子过程。近来，反应室里出现了一种搁置形式，使用者可以灵活地移动它来配置合适的等离子体蚀刻方式：反应性等离子体(RIE)、顺流等离子体(downstream)和直接等离子体(directionplasma)。

       CRF等离子活化机技术等离子体表面处理的功率并非越大越好，在较低功率下，处理的薄膜剪切强度随着功率的增加而增加，达到峰值后强度逐渐降低。感应耦合等离子体的蚀刻方法(ICPE)是化学和物理过程的综合结果。其基本原理是：在低压下，由ICP射频电源输出到环耦合线圈，通过耦合光放电，混合腐蚀气体通过耦合光放电，在下电极中产生高密度等离子体RF在基板表面的作用下，基板图形区域内半导体材料的化学键被打断，与腐蚀性气体产生挥发性物质，将气体与基板分离，从真空管中抽离。