诚峰等离子体发生器在oled面板生产过程中起着相当关键的功效：
       通常，用于去除有机污染的等离子气体主要由氧气.Ar等组成。其中，Ar等离子体发生器方法主要是表层物理溅射。Ar离子在电场获得足够的能量轰击表层，去除表层分子和原子，从表层去除污染物，提升表层粘附功能，改变表层粗糖含量。基于Ar是稀有气体，不与材质表面反应，可以处理有些易被氧化物质的表层。但对表层也有很大的损伤和热效应。

       氧气等离子和氢气等离子具有活性化学特性，是等离子体发生器清洗中非常典型的化学反应清洗。等离子体发生器处理能高效去除有机物，中性氧原子具有相当活性的化学特性，能迅速与有机污染反应，产生挥发性气体(CO.CO2和H2O脱离物体表层，但该方法不适合处理易被氧化材质。氢气等离子通过活性H原子的还原，可以比较容易地去除金属表面的被氧化层，也可以与有机碳氧化合物反应产生挥发性物质，如CH4。化学清洗的优点是速度快，选择性好。
在包装过程中，设备和材质表层的各种污染会明显影响包装制造和产品品质，常压等离子清洗技术，不受真空泵条件的限定，容易去除生产过程中产生的分子水平污染，明显提升包装的可靠性和商品合格率。它可以集成到自动生产线上，以清洁高一代和大型基板。
       在生产过程中，光刻技术占很大比例。为了更好地在基板上产生图形化，须要运用很多的光刻胶。当光刻胶沉积在机器设备上时，不仅会影响设备的运行，而且会加速设备的老化，须要定期清洗。常规清洗须要拆卸设备，相当不方便。常压等离子喷枪的等离子射流可以比较容易地处理有些难以到达的空隙。
       等离子体发生器在oled面板生产过程中起着相当关键的功效，但常规等离子体发生器受到真空泵条件和腔容量的限定，无法处理大型基板和不规则部件。常压等离子清洗机突破了真空泵限定，具有广泛的发展前途。