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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
CRF-APO-R&D-DXX
可选配多种类型等离子喷枪和喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境;
设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间;
可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本;
使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制。
13632675935
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名称 | 喷射型AP等离子处理系统 |
等离子电源型号 | CRF-APO-R&D-DXX |
直喷式等离子喷枪型号 | 直喷式:DXX(Option:2mm-6mm) |
电源 | 220V/AC,50/60Hz |
功率 | 1000W/25KHz(Option) |
功率因素 | 0.8 |
处理高度 | 5-15mm |
处理宽幅 | 直喷式:1-6mm(Option) |
内部控制模式 |
数字控制 |
外部控制模式 |
启停I/O |
工作气体 |
Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa) |
电源重量 |
8kg |
应用范围
等离子处理设备主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
等离子体是物质的一种存有状态,一般物质以固态、液态、气体三种情况存有,但在一些特殊情况下可以以第四态存在,如太阳表面和对大气层中存有的电离物质。这类物质处在一种称为等离子体的情况,也就是物质的第四态。等离子体中存在以下物质:高速运行的电子、中性原子、分子、原子团(自由基)、离子化原子、分子;由分子结构离解反应生成的紫外光、未反应的分子、原子等,但物质依然维持电荷平衡中性的情况。
等离子处理设备厂家生产制作的设备可用于消除金属表层的去油有机物以及氧化层清洗,在溅射、喷涂、粘合、焊接,锡焊和PVD,CVD涂覆前,开展等离子处理,才可以得到完全整洁的表面无氧化的表层。等离子化解决在这类状况下能够造成下列反应:
1、灰化表面有机层
材料表面将遭受化学轰击;受到高温状态下污染物会蒸发出来;环境污染物质在较高能正离子的冲击性下被破碎,随后释放出。
因为等离子每秒钟只有透过数纳米薄厚,因而污染层不可以太厚。
2、等离子清洗设备用以除去金属氧化物
氧化物与处理的气体产生化学变化,这一过程用氢或氢与氩的混合物来开展。有时也选用二步生产加工技术,开始用氧气将表层氧化五分钟,随后用氢与氩的混合物去除氧化层。
3、等离子蚀刻用于焊接
一般状况下,印刷电路板在焊接前用有机化学助焊剂处理。这种化学物焊后需要用等离子法去除,不然会产生腐蚀等问题
4、等离子去胶、键合
电镀工艺、粘合、焊接工作中的残余物会消弱优良键合,这种残余物可以用等离子法有选择性地除去。另外空气氧化这也会危害键合的品质,也是需要等离子清洗。
PTFE膜等离子设备活化处理的PTFE膜有哪些?流程怎么样?
提高PTFE膜粘接力的三种表面处理方式,它们的特点及处理效果各不相同,今天重点介绍一下ptfe膜等离子设备中的活化处理。
ptfe膜等离子设备活化处理,可提高PTFE膜材料表面的粘附力,有哪些膜可以使用等离子设备处理?那么整个活化处理过程是怎样的呢?下面让我们一起来了解。
由于不同的应用场合和不同的材料组成,PTFE薄膜可以分为多种不同的类型,而等离子设备可以处理哪些PTFE薄膜,这一点也可以说是相当多的就不一一列举了,以下是PTFE膜比较典型的几种材料,对其进行了处理。
1、添加红色颜料和玻璃纤维的PTFE薄膜;
2、添加石墨或碳粉的PTFE薄膜。
3、陶瓷粉末的PTFE薄膜的加入。
由于以上PTFE膜是其他材料的添加或复合,所以在具体的ptfe膜等离子设备活化处理过程中,需要对相应的工艺参数进行调整。所以不同的PTFE膜,不同的处理目的,往往对应着不同的工艺参数,而等离子体表面处理工艺是有一定流程的,下面以PTFE膜中掺入一定比例的陶瓷粉为例给大家介绍一下。
ptfe膜等离子设备等离子表面活化目的是将环氧树脂与PTFE膜压接前处理,提高与环氧树脂的粘接力。
等离子体表面活化过程:将处理过的PTFE膜放入真空型等离子体表面处理设备的真空腔内,关闭腔门抽真空至20-50Pa,通入优选的一定量工艺气体,保持一定的真空度进行等离子放电,设定功率和处理时间,待处理完成后再回流气体进行破空,再将处理好的PTFEP四氟乙烯膜打开腔门,取出处理好的PTFEP四氟乙烯膜。
在等离子活化效应的检测方面,可以通过改变水滴接触角的角度来体现。另外,经过1000小时的紫外光老化试验,经过处理的PTFE膜的拉力值达到9N/cm以上,而UV光老化试验仍未剥离,拉力值在规定范围内变化不大,经ptfe膜等离子设备等离子表面活化后,粘接效果合格。
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