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20年专注等离子清洗机研发生产厂家
诚峰智造的四类等离子体表面处理仪都有哪些不同点：
1、crf真空等离子体表面处理仪技术：
这类等离子体是在全封闭真空过程中产生的(10-3到10-9bar)。相对于常压情况，单位体积内的粒子数更少，从而增加了粒子自由程长度，相对减少了碰撞过程。最终是，等离子体能量衰减的趋势减弱，并能在空间中更广泛地传播。为了制造真空腔，需要使用强大的气泵。真空等离子技术没有联动连接功能。
2、高电压等离子体表面处理仪技术：
高电压等离子体是由专用气体放电管产生。这类等离子体在表面处理中并不重要。
3、电晕处理技术：
电晕处理技术是一种采用高压的物理方法，主要用于薄膜处理。电晕预处理的缺点是，其表面活化能力较低，处理后表面效果有时不够均匀。还可以对膜的反面进行处理，有时根据工艺要求可以避免。另外，经电晕处理后获得的表面张力不能长期保持稳定，处理后的产品往往只能存放有限的时间。
4、常压等离子体表面处理仪技术：
常压等离子处理机技术是在大气压条件下产生的等离子体，常压型等离子体处理技术成本低，性能优良，可作为真空等离子体和电晕等离子体的工艺替代和工艺改进，得到广泛应用。常压型等离子体技术的一大优点是其联机综合性能，该技术可以平稳地集成到现有的生产系统中，作为工艺准则。
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