CRF真空等离子体清洗机通入不同的气体都有什么用途:
       在使用CRF在真空等离子体清洗机改性物体之前，首先对物体和污垢进行分析和清洗，然后选择气体。根据等离子体的作用原理，可选气体可分为两类。一种是氢、氧等反应性气体，主要用于清洁金属表面的氧化物并恢复反应。真空等离子体清洗机主要用于清洗物体表面的有机物并发生氧化反应。另一种是真空等离子体清洗机通过氩、氦、氮等非反应性气体。氮等离子体处理可以提高数据的硬度和耐磨性。

一，CRF真空等离子体清洗机清洗金属外观
       金属表面常有油脂、油污等有机物和氧化层，溅射、油漆、粘结、粘结、焊接、铜焊和PVD，CVD涂层前，需要真空等离子体处理，以获得完全清洁和无氧化层的外观。在这种情况下，等离子体处理具有以下功能：
氧化物去除金属氧化物与处理气体发生化学反应。这种处理应该是氢或氢和氩的混合物。有时还有两个步骤。首先，氧化第二步是用氢和氩的混合物去除氧化层。几种气体也可以一起处理。
二，CRF真空等离子体清洗机等离子体刻蚀
       在真空等离子体蚀刻过程中，蚀刻物通过处理气体变成气相。真空泵提取处理气体和基质，外观覆盖新鲜处理气体。蚀刻部分不被数据覆盖。
       真空等离子体清洗机也用于蚀刻塑料外观，可通过氧气灰化填充混合物，共同分布和分析情况。真空等离子体蚀刻作为塑料印刷和粘合的预处理技术非常重要，如POM，PPS和PTFE。等离子体处理可大大增加粘结润湿面积。