诚峰Crf等离子清洗设备去除肉眼不可见的微观污染物质:
       Crf等离子清洗设备是由正负电荷的离子和电子也可能由一些中性原子和分子组成，宏观上一般为电中性。等离子可以是固体的。液体和的气体。电离的气体是一种的气体等离子。等离子的基本流程是在电场和磁场的影响下，多种带电颗粒物相互间的相互作用力形成各种效应。

      Crf等离子清洗设备适用于清洗液晶面板的活化的气体是氧等离子。等离子清洗以去除油污和有机污染物质颗粒物，因为氧等离子可以氧化有机物并形成的气体排放。增强偏光板粘贴的成品率，大大提高电极与导电膜的附着力，提高产品质量和稳定性。
等离子清洗设备实际上是一种高精度的干式清洗设备。等离子处理设备的清洗范围为纳米级有机和无机污染物质。低压的气体光等离子主要用于等离子清洗设备的处理和应用。一些非聚合物无机的气体（Ar.N2.H2.O2等）受到高频和低压的刺激，形成多种活性粒子，如离子、激发态分子和自由基。
         Crf等离子清洗设备的处理可分为两类：一类是惰性气体的等离子（如Ar.N2等）；另一类是反应性气体的等离子（如O2.H2等）。这些活性粒子可以与表面材料发生反应，并刺激态分子清洁活化表面。等离子形成的原理如下：对一组电极施加射频电压（频率约为几十兆赫兹），在交变电场的冲击下，在电极相互间形成高频交变电场区域内的的气体形成等离子。活性等离子对被清洗物体进行表面物理轰击和化学反应，使被清洗物体的表面物质变成颗粒物和的气体物质，通过抽真空排出达到清洗的目的。随着LCD工艺水平的快速发展，LCD制造技术的极限不断受到挑战，并发展成为代表制造技术的前沿技术。在清洁行业，清洁的要求也越来越高，常规清洁不能满足要求，等离子清洗设备更理想地解决了这些精密清洁的要求，满足了当今的环境保护情况。